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晶圆单片式清洗机
设备型号：SCS-SQ100
适用制程：清洗、蚀刻、去胶
产品尺寸：6/8/12寸
腔体类型：喷淋/浸泡
腔体数量:2/4/8（可定制）
Load/Unload：open cassette/FOUP/SMIF/EFEM
工艺指标：particle：0.2um≤30ea,金属离子：≤5E10atoms/cm2
软件支持:IPC+PLC
平均故障时间MTBF:≥720h
破片率:≤1/100... MORE +
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全自动槽式清洗机
设备型号：SCS-BQ100
适用制程：清洗、蚀刻、去胶
清洗方式：cassette less/cassette type
产品尺寸：6/8/12寸（向下兼容）
槽体类型：静态/循环
Load/Unload：标准cassette/Loadport
工艺指标：particle：0.2um≤30ea，金属离子：≤5E10atoms/cm2
软件支持:IPC+PLC
平均故障时间MTBF:≥720h
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去胶清洗机
设备名称：槽式湿法去胶机
整机尺寸：约 5200mm（L）× 1900mm(W)×2200mm(H)；
操作台面高度：950±50mm；
适用产品：12inch晶圆（兼容8inch晶圆）；
操作系统：PLC 操作系统；
设备具有12英寸（兼容8英寸）晶圆上的光刻胶去除功能；
适用于12英寸和8英寸晶圆上的正性光刻胶、负性光刻胶去除工艺，并对晶圆上的相关金属... MORE +
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全自动晶圆化学清洗设备
设备型号：SCS-BQ200
适用制程：清洗、蚀刻、去胶
清洗方式：cassette less/cassette type
产品尺寸：6/8/12寸（向下兼容）
槽体类型：静态/循环
Load/Unload：标准cassette/Loadport
工艺指标：particle：0.2um≤30ea，金属离子：≤5E10atoms/cm2
软件支持:IPC+PLC
平均故障时间MTBF:≥720h
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SRD湿法清洗机
设备型号：SCS-SRD200
适用制程：清洗、蚀刻、去胶
产品尺寸：6/8/12寸（25/50pcs)
腔体类型：旋转喷淋
腔体数量：可定制
Load/Unload：open cassette
工艺指标：particle：0.2um≤30ea，金属离子：≤5E10atoms/cm2
软件支持:IPC+PLC
平均故障时间MTBF:≥720h
破片率:≤1/10000
稼动... MORE +
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