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FHD沉积设备
FHD沉积系统设计为在最短的时间内在基底上沉积硅和在基底上沉积硅酸盐（二氧化硅），特别适用于光波导工艺的二氧化硅沉积，薄膜厚度达到25微米以上。
-技术优势
1.首款自主研发的FHD镀膜设备，TGV镀铜设备实现国外竞品完全对标，产品已进客户端量产。
2.FHD镀膜设备，TGV镀铜设备为切入口，布局半导体光量子集成芯片... MORE +
一代FHD沉积设备
FHD镀膜设备，TGV镀铜设备为切入口，布局半导体光量子集成芯片和先进封装制程中合成石英和光纤设备及产品线，可替代进口设备 MORE +

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