去胶清洗机
设备名称:槽式湿法去胶机
整机尺寸:约 5200mm(L)× 1900mm(W)×2200mm(H);
操作台面高度:950±50mm;
适用产品:12inch晶圆(兼容8inch晶圆);
操作系统:PLC 操作系统;
设备具有12英寸(兼容8英寸)晶圆上的光刻胶去除功能;
适用于12英寸和8英寸晶圆上的正性光刻胶、负性光刻胶去除工艺,并对晶圆上的相关金属线条或焊盘等无损伤,作业方式为槽式模式。
整机尺寸:约 5200mm(L)× 1900mm(W)×2200mm(H);
操作台面高度:950±50mm;
适用产品:12inch晶圆(兼容8inch晶圆);
操作系统:PLC 操作系统;
设备具有12英寸(兼容8英寸)晶圆上的光刻胶去除功能;
适用于12英寸和8英寸晶圆上的正性光刻胶、负性光刻胶去除工艺,并对晶圆上的相关金属线条或焊盘等无损伤,作业方式为槽式模式。
产品特点
1.配备多套去胶槽体,能够满足多种去胶工艺;
2.具备去胶、水洗及干燥功能;
3.具备连续自动作业能力,适合批量化生产;
4.药水槽具备药水循环过滤功能;
5.去胶工艺后对晶圆的基材、金属导线、焊盘等所有内部结构无损伤
6.破片率 连续生产1万片,无机台原因造成的破片及划伤
2.具备去胶、水洗及干燥功能;
3.具备连续自动作业能力,适合批量化生产;
4.药水槽具备药水循环过滤功能;
5.去胶工艺后对晶圆的基材、金属导线、焊盘等所有内部结构无损伤
6.破片率 连续生产1万片,无机台原因造成的破片及划伤
应用领域
适用于12英寸和8英寸晶圆上的正性光刻胶、负性光刻胶去除工艺
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