匀胶显影设备是完成除曝光以外的所有光刻工艺的设备，包括光刻材料的涂布、烘烤、显影、晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等，匀胶显影机由四部分组成：第一部分是晶圆盒工作站，晶圆盒在这里装载到机器上。机械手从晶圆盒中把晶圆抽出来，传送到工艺处理部分，即第二部分。工艺处理部分是匀胶显影机的主体，增粘模块、热盘、冷盘、旋涂、显影等主要工艺单体都安装在这里，一个或两个机械手在各单体之间传递晶圆。第三部分是为浸没式光刻工艺配套的单体，包括晶圆表面水冲洗单体、背清洗单体等。第四部分是和光刻机联机的接口界面，包括暂时储存晶圆的缓冲盒、晶圆边缘曝光和光刻机交换晶圆的接口等。

集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件等