1.去胶及胶后清洗
2.炉管及长膜前清洗
3.氧化层/氮化硅蚀刻
4.铜/钛合金蚀刻
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- 全自动湿式去胶清洗设备
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产品特点
1、大批量半导体封装芯片精密在线清洗系统。
2、喷淋清洗方式,高效清除助焊剂及有机、无机污染物。
3、清洗液自动添加;DI水自动添加。
4、化学清洗+DI水漂洗+热风干燥流程按顺序完成。
5.清洗液喷射压力可调节,对应不同清洗要求。
6.大流量和高压力配合,清洗液和DI水可完全渗透至器件微间隙,清洗彻底。
7、配备漂洗电阻率监控系统,检测漂洗DI水水质。
8、风刀风切+超长红外热风循环干燥系统。
9、PLC控制系统,中/英文操作界面,程序方便设置,更改,存储和调用。
10、SUS304不锈钢机身,管道及零部件,耐温,耐酸性、碱性等清洗液。
11、可与前后设备连接,组成自动清洗线。
12、清洗液浓度监测等多种选配配置。